溶劑脫蠟技術(shù)發(fā)展工藝和冷卻速度對(duì)影響[一]、溶劑脫蠟設(shè)備廠技術(shù)發(fā)展工藝
隨著科技的不斷發(fā)展，催化脫蠟、異構(gòu)脫蠟技術(shù)逐步興起，溶劑脫蠟設(shè)備廠技術(shù)發(fā)展變得緩慢，僅是在生產(chǎn)和設(shè)計(jì)中局部?jī)?yōu)化，整體技術(shù)沒有重大突破，仍以德士古工藝為主，約占世界溶劑脫蠟設(shè)備廠裝置的80%以上，至今已經(jīng)有80多年的歷史，上世紀(jì)80年代左右技術(shù)發(fā)展較快，國(guó)內(nèi)現(xiàn)有開工裝置全部采用該技術(shù)。我國(guó)酮苯脫蠟廠的工藝特點(diǎn)主要有三方面：一是采用溶劑多點(diǎn)，稀釋并控制冷點(diǎn)溫度；二是采用兩段過(guò)濾和濾液循環(huán)工藝；三是采用脫蠟脫油聯(lián)合及濾液三段逆流循環(huán)工藝。
潤(rùn)滑油和石蠟市場(chǎng)瞬息萬(wàn)變，石蠟及潤(rùn)滑油利潤(rùn)也隨之變化，就目前情況，石蠟成為市場(chǎng)效益較好的石油產(chǎn)品，而潤(rùn)滑油基礎(chǔ)油的利潤(rùn)則很低。因此，在企業(yè)的生產(chǎn)中，石蠟成為溶劑脫蠟設(shè)備廠裝置的主打產(chǎn)品，而作為潤(rùn)滑油基礎(chǔ)油原料的脫蠟油成為副產(chǎn)品，在潤(rùn)滑油基礎(chǔ)油市場(chǎng)不好時(shí)甚至不進(jìn)行生產(chǎn)了，由此，溶劑脫蠟設(shè)備廠裝置生產(chǎn)方案由油、蠟聯(lián)產(chǎn)，變?yōu)閱萎a(chǎn)石蠟。本裝置為適應(yīng)市場(chǎng)形勢(shì)，以多產(chǎn)石蠟為目的，設(shè)計(jì)中將生產(chǎn)潤(rùn)滑油、石蠟兩種產(chǎn)品變?yōu)橹簧a(chǎn)石蠟一種產(chǎn)品，裝置工藝流程有一定程度的縮減，工藝操作苛刻度降低，實(shí)際生產(chǎn)中，運(yùn)行成本大幅降低，但為追求裝置效益較大化，需要考慮如何降低裝置產(chǎn)品成本，以提高裝置整體效益。
[二]、冷卻速度對(duì)脫蠟的影響
在溶劑脫蠟設(shè)備工藝條件下，生成蠟的晶核數(shù)主要與過(guò)飽和度有關(guān)，也與從飽和度到達(dá)過(guò)飽和度時(shí)間的長(zhǎng)短有關(guān)。若過(guò)飽和度大，從過(guò)飽和到飽和的時(shí)間短，生成晶核數(shù)目多，結(jié)晶細(xì)小，因此，在冷卻初期的冷卻速度不宜過(guò)快，此外，若冷卻速度快，溶液豁度增加較快，對(duì)結(jié)晶也產(chǎn)生不利影響。潤(rùn)滑油溶劑脫蠟廠在晶核生成后，特別是在晶體已初步形成之后，晶體表面和晶體數(shù)目增多，繼續(xù)析出的蠟分子很易于擴(kuò)散到這些晶核或晶體表面，在冷卻速度維持正常的條件下，蠟分離出來(lái)的速度小于蠟的擴(kuò)散速度，蠟分子就可以擴(kuò)散到晶核或晶體表面，不生成新晶核，此時(shí)可以適當(dāng)提高冷卻速度。但是冷卻速度過(guò)低時(shí)，物料在結(jié)晶器內(nèi)停留時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，降低了設(shè)備的處理能力，所以在不影響結(jié)晶的前提下，可以適當(dāng)提高冷卻速度。
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